光刻机制造水平曝光！国内企业想要造出高端光刻机：还要多少年？

【11月28日讯】导语，对于日常生活中的智能手机、电视、电脑等产品，都离不开芯片、系统的支持，尤其是芯片产品，它就像是人类的大脑中枢，决定着整个产品的运转，但想要制造出高达芯片产品，就离不开高端的光刻机设备，在目前全球范围内，EUV极紫外光刻机是全球最为顶尖的光科技设备，只有荷兰ASML公司能够生产，是目前7nm EUV、5nm甚至是2nm芯片生产的必不可少的设备，但由于荷兰ASML公司的EUV极紫外光刻机产能有限，所以即便是售价高达“1.2亿欧元”，也同样遭到了全球芯片制造厂商的哄抢，“供不应求”，那么制造一台高端光刻机到底有多难呢？

其实针对光刻机设备，此前ASML公司高管就曾豪言：“即便是公开图纸，中国也无法山寨出高端的光科技设备。” 这是因为ASML公司所打造的光科技设备，都来自于全球各国的顶尖技术，美国的光源设备，德国的蔡司镜头，台积电的制程技术等等，所以你即便是拥有高端光刻机设备的图纸，确实也是无法照着图纸复刻出来。

就在近日，有相关媒体指出，由于全球光刻机设备制造企业数量非常少，主要的光刻机厂商有荷兰ASML、日本尼康、佳能以及中国上海微电子，可以说除了荷兰ASML公司以外，其他光刻机厂商一直都只能够在中低端市场苟延残喘，虽然目前上海微电子已经实现量产的光刻机设备只能够达到90nm工艺级别；

但据透露，目前上海微电子已经掌握了28nm制程的光刻机设备，这意味着我国光刻机水平将进一步突破至28nm，但距离高端光刻机的工艺水准，还有很大的技术差距；因为在28nm-5nm工艺制程之间，还间隔着22纳米、14纳米、10纳米、7纳米，将近四代技术差距，所以想要达到顶尖的EUV光刻机水准，还需要很长的一段时间进行磨练。

当然我们也不用过于担忧，因为目前国内的各种资源扶持都开始向国产半导体产业倾斜，各种免税政策、人才培养、资金扶持等等，就连国内科研实力最强的中科院，都正式宣布：“将集合全院之力攻克光刻机、半导体材料等核心难题；” 按照我国目前的光刻机水平，国内企业想要制造出高端EUV光刻机设备，至少还需要5-10年的时间，毕竟想要在高端光刻机领域上取得突破，就需要足够的时间去积累，同时小编也坚信中国人在困难面前不会低头，一定会造出属于我们中国人的高端光刻机，让中国的科技水平也同样会站在世界的前端。

最后：芯片之难，难于光刻机，没有光刻机，就无法造出一颗芯片；各位小伙伴们，你们对于高端EUV光刻机设备，都有什么样的看法和意见呢？欢迎在评论区中留言讨论，期待你们的精彩评论！