嘲讽我国，给图纸看懂也造不出光刻机，专家用行动给西方上了一课

近年来，随着美国加大对华在半导体芯片上的打压，一时间光刻机研发成为了我国突破美国在芯片领域“卡脖子”的关键。可就在不久前，上海微电子成功研发出22nm光刻机，终于将我国在光刻机技术领域推进了一大步。对于中国取得的成就，开始让美国一些媒体感觉不安，甚至表示恰恰是美国的打压，只会让中国在未来更早地建立高端芯片生产链，成为美国芯片最大的对手。

其实早先的中国，在半导体芯片领域可谓是一片空白。当我国刚开始组织科研部门，投身半导体芯片领域，逐渐摸索了解光刻机时，西方国家甚至极为傲慢地认为，即便是将光刻机图纸摆在我们的面前，就算能看懂，也根本造不出来。或许当初那些西方媒体没想到的是，专家给西方上了生动的一课，仅仅过了几十年，中国就已经能自主生产出22nm光刻机了。

当然，能制造22nm光刻机并不是什么值得吹嘘的“成就”，毕竟荷兰ASML所能生产出的是5nm光刻机，而台积电更是早在7月时对外宣布在不久后将能量产3nm芯片，而在2nm芯片技术上也取得了重大的突破。

这意味着台积电在未来将掌握3nm乃至2nm光刻机技术，一举超越ASML。所以，目前22nm光刻机距离世界一流光刻机还有“数代”的路要走，包括14nm、10nm、7nm、5nm、3nm直至2nm，可见未来还需要跨越多重“高峰”才能真正实现中国半导体芯片的崛起。

既然如此，上海微电子能生产出22nm光刻机为何还要大肆庆祝？似乎这台光刻机与世界先进光刻机相比实在“不入流”。事实上并非如此，22nm工艺光刻机的顺利研发让我国在光刻机领域迈进了一大步。而且我国发展本身，除了需要高端芯片以外，更需要大量的中低端芯片，而22nm光刻机恰好可以帮助我国半导体芯片企业填补中低端市场。至于高端芯片市场，依旧还需要足够的时间慢慢追赶。

除了22nm光刻机可以有效填补中国中低端芯片市场外，还有另一个值得庆祝的原因。那就是随着我国在22nm光刻机技术领域越来越成熟，未来有望在中低端光刻机出口上与欧美国家一较高下。虽说22nm光刻机并不算最顶级的光刻机，然而随着5G、大数据、AI等新技术时代的到来，未来海外市场注定增加对中低端芯片以及光刻机的需求，而这对于中国光刻机来说同样是一次重大的机遇。

最后，值得庆祝的理由反而很简单，因为光刻机领域每一点进步背后，有着无数人的努力付出和汗水。也许这样的进步并不能帮我国一下子扭转在光刻机领域的颓势，但却在向外界证明，在光刻机领域中国并没有放弃，中国科技工作者也正在夜以继日地研发光刻机，期盼着早日摆脱来自美国的束缚。这难道不值得庆祝吗？当然要庆祝，因为每一次庆祝，都是在见证光刻机历史正在中国人手中被改写。

那么我国光刻机到底还需要多久，才能追赶上欧美的脚步？根据“2035年远景目标”来看，2035年会是一个重大转折点，那时我国将成为创新型科技强国，即便在光刻机领域还无法与欧美并驾齐驱，但绝对不会落后欧美太多。

据有关人士分析认为，再给我国15年时间，应该可以完成7nm光刻机的独立研发制造，甚至能自主制造出5nm光刻机。虽然那时光刻机技术很可能已经达到2nm甚至是1nm技术，但这种追赶速度其实已经足够惊人。总而言之，我们需要时间，只要有足够的时间，光刻机技术必将被中国人再次攻克，届时美国高端芯片领域将易手中国。