作为生产制造芯片的主要工具，光刻机的作用可以说非常大了，没有光刻机就没有芯片。中国无法自主生产芯片，一个主要原因就是自己没有光刻机。相对于芯片来说，光刻机的研发难度又是另外一个等级，有人甚至会问这样的问题，研发光刻机和原子弹哪个容易一些。
正是因为中国在芯片制造和光刻机上的行业空白，美国在制裁中国的时候首先就是禁止向中国科技公司出口芯片。而芯片又是手机等智能设备的核心部件，相当于大脑一样。就这一个限制，中国科技公司的脖子就被西方狠狠掐住了。这对于中国科技公司发展甚至生存来说，都造成了极大的威胁，华为和中兴就是典型例子。因此，中国必须要在芯片制造和光刻机研发上发力。
我国在光刻机领域的落后实际是有现实原因的，我国在该领域起步至少晚了西方国家十几二十年。而对于生产工艺、精度以及材料要求相当高的光刻机来说，没有几十年的积累无法研发出来。荷兰是世界上光刻机技术领域的佼佼者，荷兰的ASML公司甚至是全球唯一可以生产EUV的地方，而7nm以下的芯片基本都是要用EUV来制造的。荷兰就曾表示，即使把光刻机卖给中国，中国也无法仿制出来。原因在于，光刻机的核心原件来自包括美国在内的多个国家，一旦有一个国家进行限制，这件事都无法完成。事实上，这也成了我们目前研发光刻机的一大难题。
要知道，对于中国人来说世界上就没有无法攀登的山峰，光刻机也是如此。据中国微纳米技术学院的消息，苏州纳米所已经在5nm超高精度光刻机上取得重要进展，这意味着中国在该领域的巨大突破。由于我们不具备许多高集成的仪器，所以这次研发出来的成果主要是用来制造集成电路光子芯片的。我们有理由相信，未来属于中国自己研发的光刻机一定会问世，而且那天正在慢慢到来。
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