国产光刻机突破22纳米！还存在一定差距，依然值得我们骄傲

随着我国科技的发展，在不少领域已经反超世界各国，居于领先的位置。众所周知，我们国家科研发展起步是比较快的，因此实现弯道超车，是值得我们高兴的事情。然而我们国家其实对于一些高精尖技术，仍旧无法完美的突破，为什么人家外国人就能够研制出来呢？毕竟那是人家几十年的考研经验积累下来的，而我们国家所花费的时间，跟人家是没有可比性的。

还有一个原因就是，有的发达国家经常对我们国家实施技术上的封锁，因此也就迟迟无法完美突破。就比如光刻机，其实国产的光刻机已经达到了22纳米，距离荷兰的光刻机技术差距还是非常大的，不过已经值得我们骄傲了，这是为什么呢？一起了解一下吧。

我们都知道，即使在西方各国对我们进行技术封锁的时候，仍旧有科技企业突破天际，那就是华为5G，华为5G以及其芯片可以说技术是非常之高，这也是为什么美国会眼红了。而我们国家的芯片技术其实也是有所突破，在全世界闻名的北斗卫星导航系统中，其所用到的3号芯片已经突破了22纳米的上限。而上海微电子也是经过长时间的辛苦专研，研制出了能够生产22纳米的光刻机。这一个个成就，足以让我们感到骄傲。

不过就有不知情的小伙伴感到好奇，22纳米距离顶尖的光刻机技术，差距还是很大的，如何才能达到高精尖的水平呢？其实答案可想而知，我们国家对于光刻机高精尖的技术，一直都是处于比较落后的状态。而22纳米，则可以认为是里程碑式的进步。就像第一个登上月球的人，能够迈出第一步已经很不容易了，何必急于求成，渴望他在月球上打滚呢？

其实在上海微电子突破22纳米之前，国产的光刻机一直保持在制造90纳米的技术，从“90”到“22”，可想而知其中的艰辛。足够可以称为是里程碑式的进步。相信在突破关键领域之后，高阶光刻机技术的研发速度更是会越来越快。

这也表示着属于我们国产的“中国芯”正在崛起！与此同时，西方发达国家研制出的硅基芯片，在物理方面已经达到了极限，也就是说他们的技术已经达到了“天花板”，已经很难再继续突破了。这也证明着中国芯达到世界领先水平，也是指日可待。

并且如果我国如果对“碳基芯片”研制成功，就可以直接不再需要光刻机技术，也就瞬间打破所有国家对我们国家，造成的技术封锁。希望这一天能够早日到来。所以这一进步值得我们感到骄傲。对此，你有何看法呢？欢迎在下方点赞转发，以及留言评论哦！我们下期文章再见！