光刻机和航空发动机，都是国内的软肋，相比来说航空不存在禁运问题，俄罗斯也有技术，国内的也能用，民航航空还可以选择英国罗罗和SNECMA等，然而光刻机就比较麻烦了，集合了全球不同发达国家的先进技术，这些先进技术对我们是禁运的。
世界上最先进的光刻机来自与荷兰ASML，占领了高端光刻机80%的市场，而EUV光刻机只有荷兰ASML能够生产。不过，荷兰ASML也仅仅是系统集成商，90%的关键零部件来自于外来，特别是德国的蔡司镜头、美国的光源和计量设备、瑞典的轴承等等，按照《瓦森纳协定》，这些高精尖的设备和技术对国内禁运。
光刻机工艺是一整套工艺，由很多设备配合完成，核心设备是曝光机，将掩膜上的图案曝光到基片上。主要是两个子系统：光学系统和对准系统，必须要做到科技和工程的极致，相比航空发动机要求要高很多。此外，还有很多其它配套设备，比如cvd、pvd、电子束加工、等离子加工等等。
航空发动机，需要在几个方面做到极致：材料科学，耐高温的材料、高强度的材料，特备是高轻度质量比的材料，热力学、空气动力学等等。国航空发动机落后，并不会影响到其它行业，而半导体的落后则会引起其它行业产品竞争力不足、迭代速度慢等连锁反应。航空发动机能用就行，芯片必须要做到性能最好、成本最低，否则产品就卖不出去，产品升级无从谈起。
全球只有少数国家能够研发航空发动机，研发先进航空发动机的国家更是屈指可数，而生产光刻机的国家就更少了，荷兰的ASML、日本的尼康和佳能、上海微电子，国产光刻机制程工艺为90nm，处于低端光刻机领域，与荷兰的ASML光刻机有至少25年差距。
总之光刻机和航空发动机属于两个不同的领域，双方都不能覆盖对方的技术领域，相比来说我觉得高端光刻机更重要一些，影响到整个半导体行业、通信行业等很多相关行业。
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