光刻机对比航空发动机:差距无法接受

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  光刻机和航空发动机,都是国内的软肋,相比来说航空不存在禁运问题,俄罗斯也有技术,国内的也能用,民航航空还可以选择英国罗罗和SNECMA等,然而光刻机就比较麻烦了,集合了全球不同发达国家的先进技术,这些先进技术对我们是禁运的。

  

  世界上最先进的光刻机来自与荷兰ASML,占领了高端光刻机80%的市场,而EUV光刻机只有荷兰ASML能够生产。不过,荷兰ASML也仅仅是系统集成商,90%的关键零部件来自于外来,特别是德国的蔡司镜头、美国的光源和计量设备、瑞典的轴承等等,按照《瓦森纳协定》,这些高精尖的设备和技术对国内禁运。

  

  光刻机工艺是一整套工艺,由很多设备配合完成,核心设备是曝光机,将掩膜上的图案曝光到基片上。主要是两个子系统:光学系统和对准系统,必须要做到科技和工程的极致,相比航空发动机要求要高很多。此外,还有很多其它配套设备,比如cvd、pvd、电子束加工、等离子加工等等。

  

  航空发动机,需要在几个方面做到极致:材料科学,耐高温的材料、高强度的材料,特备是高轻度质量比的材料,热力学、空气动力学等等。国航空发动机落后,并不会影响到其它行业,而半导体的落后则会引起其它行业产品竞争力不足、迭代速度慢等连锁反应。航空发动机能用就行,芯片必须要做到性能最好、成本最低,否则产品就卖不出去,产品升级无从谈起。

  

  全球只有少数国家能够研发航空发动机,研发先进航空发动机的国家更是屈指可数,而生产光刻机的国家就更少了,荷兰的ASML、日本的尼康和佳能、上海微电子,国产光刻机制程工艺为90nm,处于低端光刻机领域,与荷兰的ASML光刻机有至少25年差距。

  

  总之光刻机和航空发动机属于两个不同的领域,双方都不能覆盖对方的技术领域,相比来说我觉得高端光刻机更重要一些,影响到整个半导体行业、通信行业等很多相关行业。

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