中芯赌1.2亿美元抢下最先进光刻机！可望缩短与一线厂商差距

身为中国半导体“国家队”的中芯国际，在前台积电、三星首席技术官梁孟松出任联席 CEO 后，提出 2019 年要量产 14 纳米 FinFET 的时程表，然供应链透露，10 纳米也计划力拼在同年推出，以此来看，看似低调的中芯，其实早已开始密谋规划在 2019 年连续发射 14 / 10 纳米两枚高端技术的巨型飞弹，要把与台积电、三星之间的工艺距离缩短至 1~1.5 个世代，届时，禁锢多年的国内高端技术将全面破茧而出。

ASML 光刻机到位，象征国内半导体技术进入全新阶段

近期中国半导体产业有个非比寻常的突破，来自于中芯国际、紫光集团长江存储、华虹集团华力微电子均获得荷兰设备大厂 ASML 光刻机支援，这三家大厂分属于 14/10 纳米技术、3D NAND 技术，以及主攻 28 纳米开发，同步获得高端光刻机，是国内半导体携手挺进高端技术的一大步。

中芯国际预定了一台 ASML 极紫外光光刻机，价格 1.2 亿美元，预定 2019 年交货，这是有史以来中芯进口最高端的半导体机台设备，可见在高端工艺技术上的决心，或许将展现“国家队”实力。

回顾中国半导体过去 18 年的发展历程，之所以未能有更具体的突破，且持续在中、低端制程工艺徘徊，缺乏关键人才绝对是主因之一。但事隔 18 年，在大基金的政策主导下，再度引领中国半导体重新启航，在寻找“名帅”、聚集“良将”的政策下，找来前台积电、三星技术掌舵者梁孟松主导中芯的高端技术开发。

梁孟松要挑战不可能任务，快速追赶台积电

中芯国际对外公布，28 纳米 HKMG 制程也会于 2018 年底问世，而 2019 年 14 纳米 FinFET 技术将正式量产，这代表梁孟松将以不到两年的时间，追上 14 纳米技术。

中芯只有对外公布 14 纳米 FinFET 技术将在 2019 年量产，并未提到 10 纳米工艺技术问世的时间点。

然而，供应链透露，梁孟松不单计划在 2019 年量产 14 纳米 FinFET，更秘密规划在 2019 年同步推出 10 纳米 FinFET 工艺，这种同一年推出两个极高端工艺的进度，在其他半导体大厂眼中，堪比“不可能任务”，但梁孟松要让所有人看到，他要将巨大的“不可能”，化为实质的技术成果。

今年，台积电、三星要进入全新一轮的 7 纳米 FinFET 技术争夺战，明年，这两家半导体龙头要比拼的是第二代 7 纳米 FinFET 技术，全数导入 ASML 的 EUV 机台做量产。

如果中芯 2019 年真的能把 10 纳米 FinFET 工艺推出，其与台积电、三星之间的技术差距，将从过去差距高达三个技术世代，大幅缩短至距离 1.5~1 个世代，这其中有另一层重要的含义——代表梁孟松只用了两年的时间，让“弯道超车”从口号成为事实。

梁孟松在 2017 年 10 月正式加入中芯国际，担任联席 CEO 职位，在此之前，他离开韩国三星，加入中芯国际的传言早已是满天飞。

梁孟松进入中芯国际后，在内部进行研发部门体质大改造，落实“绝对精兵政策”，不单是一般半导体企业淘汰最后 3~5% 员工这么简单，他是大刀阔斧地将技术研发（Technology Developement）部门换血率大幅提高，传该部门离职率高达 40%，主管职等的换血率更超过 50%，然对外，他则是非常低调，除了在中芯分析师电话会议上曾短暂发表言论外，对外一律是现“声”不现“身”。

在他加入前，中芯国际在高端技术一直苦于无法突破，单是 28 纳米工艺就卡关多年。中芯曾在 2015 年宣布 28 纳米 PolySion 工艺量产并成功使用在高通骁龙 410 处理器上，但实际使用量并不多，多年来中芯 28 纳米占营收的比重一直停留在个位数，且真正高端的 28 纳米 HKMG 技术也迟迟无法突破。

中芯国际 2019 年 14 纳米 FinFET 技术量产后，距离上一代的 28 纳米 PolySion 工艺技术，整整隔了四年之久。但中芯若在 2019 年让 14 纳米、10 纳米技术二连发，那可真的一雪之前技术裹足不前之恨，而中芯的突破，就是中国半导体制程技术破茧而出的关键转折。

中国半导体发展下半场，谁是最终的驭势者？

眼前的中芯国际高端工艺技术即将以“弯道超车”之姿，把过去中国半导体走了 18 年坎坷的未竟之功，在 2~3 年内快速赶上，达到比肩国际半导体大厂的目标，中芯国际的这些成绩，其实可以预示中国半导体产业正在发生变化。

变化之中，定有必然之势，此后，察势者智，驭势者赢，失势者衰。

另一家公司，则将中国半导体产业过往的“失势”暴露得淋漓尽致，那就是正在经历“曲折生死劫”中兴。事件爆发的一个多月以来，无论是自媒体还是《人民日报》、新华社等权威媒体，都发出“不计成本加大芯片投资”的声音。

所谓“不计成本”，只是文笔上一种简洁形象的说法，全局的方向和共识总是容易达成，但是具体到执行层面，我们仍需要更多更高质量的讨论，真正还原技术和商业背后的矛与盾、利与势。而且，从古今中外科技行业发展的普遍规律来看，核心技术的创新主体绝对有企业家的一席之地，这也意味着，这样的讨论也绝对不能没有这些一线冲锋者的参与。