国产光刻机制造商被眼前利益蒙蔽，一步步放弃了自研之路

　　光刻机是一种精密加工技术，其技术水平为全球认可。优秀的光刻机可生产加工超出50,000个零件，并且设计方案和生产制造都非常不容易。它有两个同步运动的操作台，两者之间的偏差低于2纳米。

　　精准度是光刻机的难题，不妨想想，一个像手指甲一样大的芯片，要集成上百亿元的晶体三极管，这对光刻机的内部构造和內部各构件的精密度提出了非常高的要求。如今中国仅有上海微电子企业在研发光刻机，可是品质和效率都远远地落伍于欧美、日本生产商，不不说，光刻机是一个极为繁杂和斥资极大的工程项目。

　　实际上，自二十世纪五十年代起，我国就开始发展电子器件半导体产业，特别是到八十年代，高新科技也排在全球前端，仅次于美国。即便大家从1979年的生产制造纪录来看，上海市元器件五厂和无线通信十四厂也可以依据intel1972年发布的8080CPU开展复刻，这得以表明那时候中国的半导体技术是十分优秀的。

　　随着中国改革开放的加深，愈来愈多的外资公司入驻，它们有优秀的技术、生产加工管理方法的工作经验。为了紧跟国际性的脚步，那时候的很多芯片企业都开始中止自主研发，改成立即从海外进口商品。

　　说到底，外资芯片不但性能好于我们自己产品研发的芯片，并且其投入产出率也高过我们自己产品研发的芯片。许多公司考虑到成本和利润问题，在市场经济体制的冲击下，做出了"最恰当"的选择，不再自主研发芯片，转为进口芯片。

　　受那样的市场环境危害，也就拥有"造不如买，买比不上租"的意识，我国光刻机的产品研发也因而越来越十分处于被动。另外也是因为中国市场的需求，我国光刻机产品研发公司不但境遇令人担忧，产品研发资产入不敷出，乃至一些公司迫不得已调产、停产。

　　从技术方面来看，愈来愈多的公司开始对研发光刻机丧失自信心。中国光刻机技术从经济发展、市场危害到技术要求，总算开始逐渐迈向没落，与全球优秀水准差别也越来越大。

　　回顾过去几十年的历史，大家不会太难发觉，如果当初的公司不受到短期内利益的影响，不选择舍弃科技攻关，坚持不懈地研究中国光刻机新项目，也许今日中国在光刻机行业的止步不前的局势早已被摆脱了， ASML的影响力也将荡然无存。

　　各位读者，你们觉得呢？